[发明专利]膜结构及其制备方法有效
| 申请号： | 201910397965.1 | 申请日： | 2019-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN110231727B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 刘国和 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提供一种膜结构及其制备方法，所述膜结构内设置有多个孔洞结构；所述孔洞结构包括气体空间和第一保护层，所述第一保护层包裹所述气体空间，所述气体空间内填充有气体。本申请通过在膜结构中设置具有气体的孔洞结构，因此孔洞结构的折射率接近于空气的折射率，进而整个膜结构的折射率受到孔洞结构的影响而降低。 | ||
| 搜索关键词： | 膜结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种膜结构，其特征在于，所述膜结构内设置有多个孔洞结构；其中，所述孔洞结构包括气体空间和第一保护层，所述第一保护层包裹所述气体空间，所述气体空间内填充有气体。
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