[发明专利]膜结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910397965.1 申请日: 2019-05-14
公开(公告)号: CN110231727B 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 刘国和 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1335
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 膜结构 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种膜结构的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:

制备多个颗粒结构;所述制备多个颗粒结构,包括以下步骤:制备多个混合体;在所述混合体的外表面形成一保护层,以包裹所述混合体,所述混合体和所述保护层形成颗粒结构;

将所述颗粒结构掺入到膜层原料,形成混合原料;所述混合体包括聚碳酸亚丙酯树脂和光酸产生剂;

在基板上涂布所述混合原料,形成混合膜层,所述混合膜层包括第一区域和第二区域,所述第一区域和所述第二区域相连;

对所述混合膜层进行紫外光照射处理;所述紫外光照射处理的具体步骤为:采用掩模板遮挡第一区域,使得第一区域的颗粒结构不受紫外线的照射,以致该区域的颗粒结构的热分解温度没有下降,第二区域采用紫外线照射,使得该第二区域的颗粒结构的热分解温度下降;

在一设定温度下,对所述混合膜层进行加热处理,使得第二区域所述颗粒结构中的聚碳酸亚丙酯树脂受热分解为气体,使分解的所述颗粒结构变为孔洞结构;第一区域未受到紫外线的照射,以致该区域的颗粒结构的热分解温度没有下降,在一所述设定温度下,第一区域的所述颗粒结构未发生受热分解。

2.根据权利要求1所述的膜结构的制备方法,其特征在于,所述设定温度大于等于100℃,且小于150℃。

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