[发明专利]一种改善碳化硅晶体生长效率的方法无效
申请号: | 201910386072.7 | 申请日: | 2019-05-09 |
公开(公告)号: | CN110004486A | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 徐良;蓝文安;占俊杰;阳明益;刘建哲;余雅俊 | 申请(专利权)人: | 浙江博蓝特半导体科技股份有限公司 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B29/36 |
代理公司: | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人: | 胡杰平 |
地址: | 321016 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种改善碳化硅晶体生长效率的方法,包括碳化硅单晶长晶的导边坩埚、感应加热线圈、保温系统、籽晶。透过该发明,当碳化硅长晶时,坩埚边上的导边将挥发1.贴近籽晶处的温度梯度提高。2.引导挥发原子往低温籽晶处。3.减少挥发原子结晶于导边位置。4.提高长晶的晶体长度。 | ||
搜索关键词: | 挥发 碳化硅晶体 籽晶处 导边 坩埚 感应加热线圈 碳化硅单晶 保温系统 温度梯度 原子结晶 生长 碳化硅 籽晶 | ||
【主权项】:
1.一种改善碳化硅晶体生长效率的方法,其特徵在于:放置长晶原料的坩埚外型设计。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江博蓝特半导体科技股份有限公司,未经浙江博蓝特半导体科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910386072.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。