[发明专利]一种直写光刻机构及其曝光方法在审
| 申请号： | 201910379065.4 | 申请日： | 2019-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN110187607A | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 李伟成;张雷 | 申请（专利权）人： | 苏州源卓光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215026 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种直写光刻机构及其曝光方法，其包括光源模组、曝光系统和放置待曝光基板的基板平台，曝光模组将光源模组的光线投影到所述基板上，其还包括至少一个升温装置，所述升温装置包括热源，所述热源投射热能量至所述基板，使得所述基板的温度升高。通过上述升温装置的使用，使得所述基板在进行曝光的过程中提前预升温，或者在曝光的过程中进行升温处理，或者曝光完成后进行升温处理，提高了光聚合反应的效率，缩短了光聚合反应的时间，进而缩短了光刻机的曝光时间，提高了光刻机的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 基板 升温装置 光聚合反应 光源模组 光刻机 热源 光刻 直写 待曝光基板 光线投影 基板平台 曝光模组 曝光系统 热能量 投射 | ||
【主权项】：
1.一种直写光刻机构，其包括光源模组、曝光系统和放置待曝光基板的基板平台，曝光模组将光源模组的光线投影到所述基板上，其特征在于：其还包括至少一个升温装置，所述升温装置包括热源，所述热源投射热能量至所述基板，使得所述基板的温度升高。
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