[发明专利]低缺陷光学薄膜制备方法及其制品有效
| 申请号： | 201910370632.X | 申请日： | 2019-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN110079778B | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 蒲云体;马平;彭东旭;邱服民;乔曌;卢忠文;吕亮;张明骁 | 申请（专利权）人： | 成都精密光学工程研究中心 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/30;C23C14/58 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人： | 阳佑虹 |
| 地址： | 610041 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低缺陷光学薄膜制备方法及其制品。薄膜制备方法包括：热处理过程、采用离子束溅射方式镀制第一膜层的过程、采用离子束辅助电子束蒸镀方式镀制第二膜层的过程、薄膜表面平坦化处理的过程，采用电子束蒸镀方式镀涂第三膜层和第四膜层的过程，采用离子束溅射方式镀制保护膜层的过程。本发明还公开了一种利用镀膜装置制备薄膜的方法，镀膜装置为顺序连接的多真空腔室，各腔室分别对元件热处理，采用离子束溅射方式镀制第一膜层和保护层，采用电子束蒸镀方式镀制第二膜层、第三膜层和第三膜层，平坦化处理。本发明结合离子束溅射和电子束蒸镀的方式，设计出了可制备强附着力、高激光损伤阈值、低应力、抗激光损伤性能好的薄膜的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 光学薄膜 制备 方法 及其 制品 | ||
【主权项】：
1.一种低缺陷薄膜制备方法，其特征在于，其包括：在真空环境下，依次执行以下步骤：A.对待镀膜元件进行热平衡处理；B.采用离子束溅射方式，在待镀膜元件表面镀制第一预定厚度的第一膜层；C.采用电子束蒸镀方式，在待镀膜元件表面镀制第二预定厚度的第二膜层；D.对第二膜层进行平坦化处理；E.采用电子束蒸镀方式，在待镀膜元件表面交替镀制第三预定厚度的第三膜层和第四预定厚度的第四膜层；F.采用离子束溅射方式，在待镀膜元件表面镀制第五预定厚度的保护膜层。
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