[发明专利]一种基于双瞳孔外差计算全息成像系统及方法在审

专利信息
申请号: 201910324392.X 申请日: 2019-04-22
公开(公告)号: CN109884869A 公开(公告)日: 2019-06-14
发明(设计)人: 王岫鑫;蒋帅帅;蒋宇皓;杨慧君;田银;赵德春;王伟;李章勇 申请(专利权)人: 重庆邮电大学
主分类号: G03H1/04 分类号: G03H1/04;G03H1/08;G03H1/10
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 赵荣之
地址: 400065 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明涉及一种基于双瞳孔外差计算全息成像系统及方法,属于光声检测领域。该系统包括He‑Ne激光源、扩束镜、分光镜I、凸透镜I、反光镜I、光瞳I、AOM声光调制器、反光镜II、光瞳II、凸透镜II、分光镜II、反光镜III、样本载物台、凸透镜III、光电探测器、乘法器、低通滤波器和计算机单元。本发明通过全息数字成像技术可以记录细胞的相位信息,获取细胞最全面的动态信息,包括传统相差显微镜无法获得的形态学参数,如细胞厚度和体积等。本发明双瞳孔外差扫描系统成像中可以区分细胞于背景的阈值自动校正,可经过多次曝光成像、重新计算和还原成像,进一步提高图像清晰度。
搜索关键词: 凸透镜 反光镜 瞳孔 外差 细胞 成像系统 计算全息 分光镜 光瞳 成像 低通滤波器 光电探测器 计算机单元 声光调制器 形态学参数 成像技术 动态信息 光声检测 曝光成像 全息数字 扫描系统 相位信息 重新计算 自动校正 乘法器 激光源 扩束镜 载物台 显微镜 还原 样本 图像 记录
【主权项】:
1.一种基于双瞳孔外差计算全息成像系统,其特征在于:包括He‑Ne激光源、扩束镜、分光镜I、凸透镜I、反光镜I、光瞳I、AOM声光调制器、反光镜II、光瞳II、凸透镜II、分光镜II、反光镜III、样本载物台、凸透镜III、光电探测器、乘法器、低通滤波器和计算机单元;分光镜I、分光镜II、反光镜I、反光镜II和反光镜III与水平台夹角为45°,He‑Ne激光源垂直于水平台,扩束镜与水平台保持水平;AOM声光调制器放置于分光镜I和反光镜II的中点,接收来自分光镜I的光束,经过AOM声光调制器后产生频率不同的光束,并传递给反光镜II;光电探测器处于正上方设置的凸透镜III的焦距范围内,在凸透镜III正上方放置样本载物台;样本载物台上放置待测物体;光瞳I放置于反光镜I和分光镜II之间,光瞳II放置于反光镜II和凸透镜II之间;乘法器包括正弦乘法器和余弦乘法器;来自光电探测器的信号经过乘法器后分别得到光外差电信号的正交分量和同向分量;再通过低通滤波器进入计算机单元。
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  • 张学军;张志宇;薛栋林;王孝坤;程强 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 2017-01-11 - 2019-05-21 - G03H1/04
  • 本申请提供一种半导体器件及其制作方法,在形成刻蚀膜之前增加一层截止膜,截止膜的刻蚀速率低于刻蚀膜的速率。在对刻蚀膜进行刻蚀时,刻蚀速率快的部分,刻蚀膜首先被刻蚀完成,此时开始刻蚀截止膜;而刻蚀速率较小的部分继续刻蚀刻蚀膜,由于截止膜的刻蚀速率低于刻蚀膜的刻蚀速率,因此,刻蚀膜被刻蚀较快的部分在截止膜部分等待刻蚀较慢的部分到达截止膜。当刻蚀较慢的刻蚀膜被刻蚀掉时,结束整个刻蚀加工过程,以形成计算全息图。本发明提供的半导体器件制作方法中将刻蚀膜的刻蚀深度均匀性转化为刻蚀膜的生长均匀性,刻蚀膜的生长均匀性相对于刻蚀膜的刻蚀深度均匀性更容易实现,从而降低了半导体器件的制作工艺对刻蚀设备精度的要求。
  • 一种基于压缩感知理论的全息图像高分辨率重建方法及系统-201610541875.1
  • 秦文健;李喆;辜嘉 - 中国科学院深圳先进技术研究院
  • 2016-07-11 - 2019-04-26 - G03H1/04
  • 本发明提供一种基于压缩感知理论的全息图像高分辨率重建方法,包括以下步骤:步骤S1,获取多角度全息数据;步骤S2,将多幅低分辨率序列图像进行融合,提取先验信息,近似到一幅目标图像中;步骤S3,自学习稀疏字典重构,获取所述目标图像下采样图像,构成字典样本库,进行过完备字典训练,通过稀疏编码求稀疏表达系数,更新每个字典原子,采用重构算法求解目标方程以得到多个高分辨率图像块,然后对所述高分辨率图像块进行拼接,得到高分辨率全息图像。本发明还提供了相应的全息图像高分辨率重建系统。本发明提供的全息图像高分辨率重建方法和系统简化了重建过程,改善了重建效果。
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