[发明专利]聚硅氮烷组合物、涂覆基材和多层结构体有效
申请号: | 201910247612.3 | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN110317457B | 公开(公告)日: | 2022-09-16 |
发明(设计)人: | 川上雅人;清森步 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C08L83/16 | 分类号: | C08L83/16;C08K5/544;C08K5/549;C08K5/5419;C09D183/16;B05D7/00 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供聚硅氮烷组合物、涂覆基材和多层结构体。聚硅氮烷组合物,其包括不含Si‑H结构的有机聚硅氮烷化合物和在分子中具有至少两个硅原子的有机氧基硅烷化合物,该聚硅氮烷组合物不释放危险物质例如氢或者需要反应性溶剂。 | ||
搜索关键词: | 聚硅氮烷 组合 基材 多层 结构 | ||
【主权项】:
1.聚硅氮烷组合物,包括:有机聚硅氮烷化合物,其包括通式(1)的重复单元:
其中R1和R2各自独立地为可含有杂原子的取代或未取代的C1‑C20一价烃基,p为0、1、2或3的整数,a和b为下述范围内的数:0<a≤1,0≤b<1,并且a+b=1,该有机聚硅氮烷化合物具有500‑100,000的数均分子量,该数均分子量是相对于聚苯乙烯标样、采用凝胶渗透色谱测定的,和具有通式(2)的有机氧基硅烷化合物:R3m(OR4)3‑mSi‑R5‑SiR6n(OR7)3‑n (2)其中R3、R4、R6和R7各自独立地为可含有杂原子的取代或未取代的C1‑C20一价烃基,R5为可含有杂原子的取代或未取代的C1‑C30二价烃基,并且m和n各自独立地为0、1或2的整数。
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