[发明专利]一种高断裂延伸率的超薄薄膜电镀工艺在审
| 申请号： | 201910161805.7 | 申请日： | 2019-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN109881221A | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | 叶颖辉 | 申请（专利权）人： | 深圳市汇美新科技有限公司 |
| 主分类号： | C25D3/38 | 分类号： | C25D3/38;C25D5/10;C25D7/00;C25D5/50;C25D5/56;H01B5/14 |
| 代理公司： | 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 | 代理人： | 叶树明 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙岗区龙城街*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种高断裂延伸率的超薄薄膜电镀工艺，包括配置电镀溶液，电镀溶液为硫酸铜和辅助溶剂混合的溶液，所述辅助溶剂包括盐酸，硫酸，光亮剂，溶液温度为20℃～50℃；将薄膜浸泡溶液中电镀，然后离开溶液进行烘烤，烘烤温度为140‑160℃，烘烤时时间20‑300s。使用上述工艺加工的超薄薄膜，具有极高的断裂延伸率，适用范围广，可广泛应用于储能单元，其应用上述工艺时，制得的超薄薄膜，不氧化。 | ||
| 搜索关键词： | 超薄薄膜 断裂延伸率 烘烤 电镀工艺 电镀溶液 辅助溶剂 储能单元 工艺加工 浸泡溶液 电镀 光亮剂 硫酸铜 硫酸 盐酸 薄膜 应用 配置 | ||
【主权项】：
1.一种高断裂延伸率的超薄薄膜电镀工艺，其特征在于：包括配置电镀溶液，电镀溶液为硫酸铜和辅助溶剂混合的溶液，所述辅助溶剂包括盐酸，硫酸，光亮剂，溶液温度为20℃～50℃；将薄膜浸泡溶液中电镀，然后离开溶液进行烘烤，烘烤温度为140‑160℃，烘烤时间20‑300s。
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