[发明专利]温度反应器及其制作方法有效
| 申请号： | 201910086032.0 | 申请日： | 2019-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN109781499B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 蒋文静;刘战峰;欧文 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G01N1/44 | 分类号： | G01N1/44;B01J19/00 |
| 代理公司： | 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 | 代理人： | 赵永刚 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种温度反应器及其制作方法。通过在温度反应器制作工艺过程中形成密封腔体和观察窗口并在形成密封腔体的密封层中设置测温电阻，本发明能够克服传统温度反应器使用时存在的上下窗口难以对准导致的测试样品容易污染、温度反应器密封性差、测试观察过程中加温不准确以及传统的温度反应器在TEM/SEM类测试设备内部不易观察和探测等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 温度 反应器 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种温度反应器，其特征在于，所述温度反应器自下而上依次包括保护层、硅衬底、观察层、第一钝化层、密封腔、密封层、第二钝化层，所述温度反应器还包括多个加热电阻、多个测温电阻、两个连通所述密封腔的凹槽和一个观察窗口；其中，所述加热电阻沉积在所述观察层上且位于所述第一钝化层中，所述测温电阻沉积在所述密封层上且位于所述第二钝化层中，所述凹槽贯穿于所述保护层、所述硅衬底、所述观察层、所述第一钝化层以连通所述密封腔，所述观察窗口贯穿于所述保护层和所述硅衬底。
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