[发明专利]一种基于忆阻器结构且具有可编程特性的光控晶体管有效
申请号: | 201910029486.4 | 申请日: | 2019-01-13 |
公开(公告)号: | CN109904275B | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 陈冰;徐顺;赵毅;程然;魏娜 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01L31/113 | 分类号: | H01L31/113 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 刘静;邱启旺 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于忆阻器基本结构且具有可编程特性的光控晶体管,由两个背对背的忆阻器存储单元组成,两个忆阻器存储单元共用阻变介质层、衬底以及底电极层,两个忆阻器的顶电极分别作为光控晶体管的源漏端电极,两个忆阻器中间所夹区域用于接受外界光场调控,作为该光控晶体管的栅极,外加光源为该光控晶体管的栅控。两个忆阻器的工作状态将共同决定该光控晶体管的工作状态,使该光控晶体管具有可编程特性。这种基于忆阻器结构的可编程光控晶体管及其操作模式在实现传统场效应晶体管功能的同时,具有非挥发性、与标准CMOS工艺制程兼容性等诸多优势,因此本发明可有效简化晶体管制备工艺并降低制备成本、降低集成电路功耗、提升集成电路集成度。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 忆阻器 结构 具有 可编程 特性 光控 晶体管 | ||
【主权项】:
1.一种忆阻器,其特征在于,包括衬底,在衬底下形成底电极层,在衬底上形成阻变介质层,在阻变介质层上形成顶电极层,所述阻变介质层采用HfOx、AlOx、GeOx的氧化物混合薄膜;所述衬底采用n型重掺杂Ge材料。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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