[发明专利]一种GaN基垂直集成光电子芯片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910097597.9 申请日: 2019-01-31
公开(公告)号: CN109904276B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 黎大兵;程东碧;孙晓娟;贾玉萍;石芝铭 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H01L31/12 分类号: H01L31/12;H01L31/18;H01L25/16
代理公司: 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 代理人: 张伟
地址: 130033 吉*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种GaN基垂直集成光电子芯片及其制备方法,解决现有GaN集成光电子集成密度不能进一步提高和水平结构结构相同,性能不能达到最优的技术问题。本发明的GaN基垂直集成光电子芯片能实现LED和PD之间的光通讯,在两块蓝宝石上分别生长外延层,并在外延层上生长设计好的探测器和发光二极管的结构,然后将蓝宝石减薄,将两块蓝宝石没有生长器件的一面通过Bonding键合在一起,可以用于垂直方向建立光通讯,进一步提高GaN基材料光通信的集成密度。这种结构通过分别单独设计探测器PD和发光二极管LED,可实现垂直结构器件之间的信息传输。本发明工艺简单,成本低廉,具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 一种 gan 垂直 集成 光电子 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种GaN基垂直集成光电子芯片,其特征在于,包括多量子阱二极管LED部分和多量子阱探测器PD部分;所述多量子阱二极管LED部分包括:衬底和多量子阱LED结构;所述多量子阱LED结构包括依次生长在衬底上的GaN外延层、n‑GaN层、InGaN/GaN层和p‑GaN层;所述多量子阱探测器PD部分包括:衬底和多量子阱PD结构;所述多量子阱PD结构包括依次生长在衬底上的GaN外延层、n‑GaN层、InGaN/GaN层和p‑GaN层;所述多量子阱二极管LED部分的衬底未生长器件的一面和所述多量子阱探测器PD部分的衬底未生长器件的一面键合在一起;所述多量子阱LED结构和所述多量子阱PD结构分别镀有金属电极,并封装有引线。
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