[发明专利]溅射装置、沉积设备以及操作溅射装置的方法在审
| 申请号： | 201880096450.1 | 申请日： | 2018-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN112585717A | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·沃纳·兹巴于尔;托拜西·伯格曼;丹尼尔·谢弗-科皮托;丹尼尔·塞韦林 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/34 | 分类号： | H01J37/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 描述了一种溅射装置。所述溅射装置包括：阴极布置，所述阴极布置为悬臂式的并且包括靶管，所述阴极布置沿轴向方向延伸并且具有第一侧和第二侧，所述第一侧为被支撑侧，所述第二侧为非被支撑侧；以及暗空间屏蔽件，所述暗空间屏蔽件设置在所述第二侧处并且至少部分地覆盖所述阴极布置，所述暗空间屏蔽件提供重叠区域，在所述重叠区域处所述暗空间屏蔽件与所述靶管沿着所述轴向方向重叠。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 沉积 设备 以及 操作 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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