[发明专利]组合物和蚀刻方法在审
| 申请号： | 201880085360.2 | 申请日： | 2018-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN111542648A | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 正元祐次;阿部徹司;齐藤康太;千叶广之 | 申请（专利权）人： | 株式会社ADEKA |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种能够在抑制残膜产生的同时形成尺寸精度优异的微细图案、且对铜系层等金属层的蚀刻有用的组合物。一种组合物，其为含有(A)选自铜离子和铁离子中的至少1种成分0.1～25质量％、(B)氯离子0.1～30质量％、(C)下述通式(1)(R |
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| 搜索关键词： | 组合 蚀刻 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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