[发明专利]用于缺陷检查和复验的方法和系统在审
| 申请号： | 201880084763.5 | 申请日： | 2018-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN111542855A | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 方伟 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了用于检测缺陷的系统和方法。根据某些实施例，一种执行图像处理的方法包括：获取样本的一个或多个图像；对一个或多个图像执行第一图像分析；标识一个或多个图像中的多个第一特征；确定与多个第一特征相对应的图案数据；基于图案数据，选择多个第一特征中的至少一个第一特征；以及对多个第一特征中的至少一个第一特征执行第二图像分析。该方法还可以包括基于图案数据确定多个第一特征的缺陷概率。选择多个第一特征中的至少一个第一特征可以基于缺陷概率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 缺陷 检查 复验 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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