[发明专利]成膜装置

摘要

本发明的成膜装置是基于原子层沉积法的成膜装置，其特征在于，上述成膜装置具备：腔，是能够将内部保持为真空的筒状体；工件保持器，将作为处理对象的工件排列为多级并保持，使得上述工件的主面沿着铅垂方向；成膜原料供给管，将成膜原料供给到上述腔内；改性剂供给管，将改性剂供给到上述腔内；载体气体供给管，将载体气体供给到上述腔内；以及排气机构，对上述腔内进行排气，在与工件的主面平行的方向上切断了上述腔的剖面中，排气机构相对于上述成膜原料供给管、上述改性剂供给管以及上述载体气体供给管的气体吹出口的开口方向位于相反侧，且从成膜原料供给管、改性剂供给管以及载体气体供给管吹出的气流的总量相对于与工件的铅垂方向平行的中心线变得对称。