[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，是基于原子层沉积法的成膜装置，其特征在于，

所述成膜装置具备：

腔，是能够将内部保持为真空的筒状体；

工件保持器，将作为处理对象的工件排列为多级并保持，使得所述工件的主面沿着铅垂方向；

成膜原料供给管，将成膜原料供给到所述腔内；

改性剂供给管，将改性剂供给到所述腔内；

载体气体供给管，将载体气体供给到所述腔内；以及

排气机构，对所述腔内进行排气，

在与工件的主面平行的方向上切断了所述腔的剖面中，

排气机构位于所述成膜原料供给管、所述改性剂供给管以及所述载体气体供给管的与形成有气体吹出口的一侧相反侧，且从成膜原料供给管、改性剂供给管以及载体气体供给管吹出的气流的总量相对于与工件的铅垂方向平行的中心线变得对称。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述成膜原料供给管将成膜原料和载体气体的混合气体供给到所述腔内，

所述改性剂供给管将改性剂和载体气体的混合气体供给到所述腔内，

从所述成膜原料供给管、所述改性剂供给管以及所述载体气体供给管的全部始终将载体气体供给到所述腔内。

3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，

在与工件的主面平行的方向上切断了所述腔的剖面中，

所述成膜原料供给管、所述改性剂供给管以及所述载体气体供给管的气体吹出口的开口方向朝上，

所述排气机构在所述腔的下部相对于所述工件位于下方。

4.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，

所述排气机构的吸气口的开口面积大于所述成膜原料供给管、所述改性剂供给管以及所述载体气体供给管的气体吹出口各自的开口面积。

5.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，还具备：

整流构件，将从所述成膜原料供给管、所述改性剂供给管以及所述载体气体供给管吹出的气流的朝向变更为朝着所述排气机构的朝向。