[发明专利]用于光刻应用的具有变化的表面形貌的凸节有效
| 申请号： | 201880069695.5 | 申请日： | 2018-10-04 |
| 公开（公告）号： | CN111279266B | 公开（公告）日： | 2023-04-14 |
| 发明（设计）人： | M·A·阿克巴斯;D·H·彼得森;塔莫·维特迪克;M·佩里;R·B·刘易斯;I·西格 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/683;H01L21/687 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了用于在光刻设备中保持物体的各种凸节设计。光刻设备包括照射系统、第一支撑结构、第二支撑结构和投影系统。照射系统被设计成接收辐射并将辐射引导朝向形成图案化辐射的图案形成装置。第一结构被设计成将图案形成装置支撑在第一支撑结构上。第二支撑结构(402)具有多个凸节(406)并且被设计成将衬底(408)支撑在多个凸节上。多个凸节中的每个凸节的顶表面的形貌不是基本平坦的，从而减小了衬底与多个凸节中的每个凸节之间的接触面积。投影系统被设计成接收图案化辐射并将图案化辐射导向衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 应用 具有 变化 表面 形貌 | ||
【主权项】：
暂无信息
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