[发明专利]低温隔离填充物的保护在审
申请号: | 201880055783.X | 申请日: | 2018-08-03 |
公开(公告)号: | CN111052389A | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
发明(设计)人: | J.W.斯特兰;D.萨达纳;M.贝尔扬斯基;郭德超;R.康蒂 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王蕊瑞 |
地址: | 美国纽*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 半导体结构包括在半导体衬底的上表面上的多个半导体鳍。半导体鳍通过相应的沟槽彼此间隔开,以限定鳍间距。在每个沟槽中包含多层电隔离区域。多层电隔离区域包括氧化物层和保护层。氧化物层在半导体衬底的上表面上包括第一材料。保护层在氧化物层的上表面上包括第二材料。第二材料不同于第一材料。第一材料具有第一抗蚀刻性,第二材料具有大于第一抗蚀刻性的第二抗蚀刻性。 | ||
搜索关键词: | 低温 隔离 填充物 保护 | ||
【主权项】:
暂无信息
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