[发明专利]用于在电镀期间流动隔离和聚焦的方法和装置有效
| 申请号： | 201880054244.4 | 申请日： | 2018-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN111032927B | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·J·巴尼克二世;布莱恩·L·巴卡柳;亚伦·贝尔克;詹姆斯·艾萨克·福特纳;贾斯廷·奥伯斯特;史蒂芬·T·迈耶;罗伯特·拉什 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | C25D17/00 | 分类号： | C25D17/00;C25D17/02;C25D17/06;C25D5/02;C25D7/12;H01L21/288 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;邱晓敏 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文描述的各种实施方案涉及用于将材料电镀到半导体衬底上的方法和装置。在某些情况下，可以设置一个或多个膜与离子阻性元件接触，以使电镀过程中电解液从横流歧管向后流过离子阻性元件并进入离子阻性元件歧管的程度最小化。在一些实施方案中，可以将膜设计成以期望的方式引导电解液。在这些或其他情况下，可在离子阻性元件歧管中提供一个或多个折流板，以减少电解液流回通过离子阻性元件并流过离子阻性元件歧管内的电镀池而绕过横流歧管的程度。这些技术可用于改善电镀结果的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电镀 期间 流动 隔离 聚焦 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朗姆研究公司，未经朗姆研究公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880054244.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
