[发明专利]半导体装置、电子构件及电子设备在审

专利信息
申请号: 201880034637.9 申请日: 2018-05-25
公开(公告)号: CN110678974A 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 山崎舜平;加藤清;热海知昭 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L21/8242 分类号: H01L21/8242;H01L21/8234;H01L27/06;H01L27/088;H01L27/108;H01L29/417;H01L29/786
代理公司: 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 刘倜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种存储电路由使用OS晶体管的单极性电路构成的新颖的半导体装置。因此,在存储电路内部中,不需要连接不同层。由此,可以减少连接部数而可以提高电路布局的自由度及OS晶体管的可靠性。特别是,因为设置多个存储单元,所以通过由单极性电路构成存储单元,可以大幅度地减少连接部数。此外,通过在同一层中设置驱动电路和单元阵列,可以防止在层间设置连接驱动电路和单元阵列的多个布线,从而可以进一步减少连接部数。可以在插板设置多个集成电路来将其用作一个电子构件。
搜索关键词: 单极性电路 存储单元 存储电路 单元阵列 晶体管 连接驱动电路 半导体装置 电路布局 电子构件 驱动电路 同一层 布线 层间 插板 集成电路
【主权项】:
1.一种半导体装置,包括:/n单元阵列;/n第一驱动电路;以及/n第二驱动电路,/n其中,所述单元阵列包括第一存储单元及第二存储单元,/n所述第一驱动电路具有供应选择信号的功能,/n所述第二驱动电路具有进行数据写入或读出的功能,/n所述第一存储单元包括第一晶体管及第一电容器,/n所述第二存储单元包括第二晶体管及第二电容器,/n所述第一晶体管的源极和漏极中的一个与所述第一电容器电连接,/n所述第二晶体管的源极和漏极中的一个与所述第二电容器电连接,/n所述第一驱动电路包括第三晶体管,/n所述第二驱动电路包括第四晶体管,/n所述第一晶体管、所述第二晶体管、所述第三晶体管及所述第四晶体管在沟道形成区域中包括金属氧化物,/n所述第一晶体管、所述第二晶体管、所述第三晶体管及所述第四晶体管的极性彼此相同,/n并且,所述第一晶体管的沟道形成区域及所述第二晶体管的沟道形成区域形成在同一半导体层中。/n
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