[发明专利]阻隔膜在审
| 申请号： | 201880027447.4 | 申请日： | 2018-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN110546301A | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | 杰罗姆·拉里尤;皮埃尔·法耶 | 申请（专利权）人： | 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26;C23C16/40 |
| 代理公司： | 31263 上海胜康律师事务所 | 代理人： | 李献忠;张静<国际申请>=PCT/EP2 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 使用在用于液体食品的层压包装材料中的阻隔膜，其包括聚合物膜基底(11)，以及在真空工艺中通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)涂覆在所述聚合物膜基底的第一侧上的具有通式SiOxCy的第一氧化硅涂层(13)，其中x为1.5至2.2，y为0.15至0.8，和直接邻近并接触所述第一涂层的第二无定形类金刚石碳(DLC)涂层(12)，所述阻隔膜在包装材料和由其制成的包装中提供气体和水蒸气阻隔性能以及机械耐久性。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物膜 阻隔膜 基底 等离子体增强化学气相沉积 水蒸气阻隔性能 层压包装材料 机械耐久性 类金刚石碳 氧化硅涂层 液体食品 真空工艺 无定形 涂覆 邻近 | ||
【主权项】：
1.使用在用于液体食品的层压包装材料中的阻隔膜，其包括聚合物膜基底，以及在真空工艺中通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)涂覆在所述聚合物膜基底的第一侧上的具有通式SiOxCy的第一氧化硅涂层，其中x为1.5至2.2，y为0.15至0.8，和直接邻近并接触所述第一涂层的第二无定形类金刚石碳(DLC)涂层，所述阻隔膜在包装材料和由其制成的包装中提供气体和水蒸气阻隔性能以及机械耐久性。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
