[发明专利]包含采用碳原子间的不饱和键的等离子体固化性化合物的高低差基板被覆膜形成用组合物

摘要

本发明的课题是提供形成具有对图案的填充性和平坦化性的被膜的等离子体固化性高低差基板被覆膜形成用组合物。解决手段是一种等离子体固化性高低差基板被覆膜形成用组合物，其包含化合物(E)和溶剂(F)，所述化合物(E)包含选自下述式(1‑1)～式(1‑7)所示的部分结构(I)中的至少一种结构。(式中，R1、R1a、R3、R5a和R6a各自独立地表示碳原子数1～10的亚烷基、碳原子数6～40的亚芳基(该亚烷基和亚芳基可以任意地被1个或2个以上酰胺基或氨基取代)、氧原子、羰基、硫原子、‑C(O)‑NRa‑、‑NRb‑或由它们的组合形成的2价基团，R5各自独立地表示氮原子、或由氮原子与选自碳原子数1～10的亚烷基、碳原子数6～40的亚芳基(该亚烷基和亚芳基可以任意地被1个或2个以上酰胺基或氨基取代)、氧原子、羰基、硫原子、‑C(O)‑NRa‑和‑NRb‑中的至少一个以上基团的组合形成的3价基团，R2、R2a、R4、和R6各自独立地表示氢原子、碳原子数1～10的烷基、或由氢原子与选自碳原子数1～10的亚烷基、氧原子、羰基、‑C(O)‑NRa‑和‑NRb‑中的至少一个以上基团的组合形成的1价基团，Ra表示氢原子或碳原子数1～10的烷基，Rb表示氢原子、碳原子数1～10的烷基或碳原子数1～10的烷基羰基，n表示1～10的重复单元数，并且虚线表示与相邻原子结合的化学键。)#imgabs0#

主权项

1.一种等离子体固化性高低差基板被覆膜形成用组合物，其包含化合物(E)和溶剂(F)，所述化合物(E)包含选自下述式(1-1)～式(1-7)所示的部分结构(I)中的至少一种结构，/n /n式中，R¹、R^1a、R³、R^5a和R^6a各自独立地表示碳原子数1～10的亚烷基、碳原子数6～40的亚芳基、氧原子、羰基、硫原子、-C(O)-NR^a-、-NR^b-或由它们的组合形成的2价基团，该亚烷基和亚芳基可以任意地被1个或2个以上酰胺基或氨基取代，/nR⁵各自独立地表示氮原子、或由氮原子与选自碳原子数1～10的亚烷基、碳原子数6～40的亚芳基、氧原子、羰基、硫原子、-C(O)-NR^a-和-NR^b-中的至少一个以上基团的组合形成的3价基团，该亚烷基和亚芳基可以任意地被1个或2个以上酰胺基或氨基取代，/nR²、R^2a、R⁴和R⁶各自独立地表示氢原子、碳原子数1～10的烷基、或由氢原子与选自碳原子数1～10的亚烷基、氧原子、羰基、-C(O)-NR^a-和-NR^b-中的至少一个以上基团的组合形成的1价基团，/nR^a表示氢原子或碳原子数1～10的烷基，/nR^b表示氢原子、碳原子数1～10的烷基或碳原子数1～10的烷基羰基，/nn表示1～10的重复单元数，并且/n虚线表示与相邻原子结合的化学键。/n