[发明专利]由铱配合物构成的化学气相沉积用原料及使用该化学气相沉积用原料的化学气相沉积法

摘要

本发明涉及用于通过化学气相沉积法制造铱薄膜或者铱化合物薄膜的化学气相沉积用原料，该化学气相沉积用原料由在铱上配位有环丙烯基或其衍生物以及羰基配体的铱配合物构成。本发明中应用的铱配合物即使在应用氢等还原性气体的情况下也可以制造铱薄膜。(式中，环丙烯基配体的取代基R1～R3各自独立地为氢、或者碳数1以上4以下的直链状或支链状的烷基)。

主权项

1.一种化学气相沉积用原料，其用于通过化学气相沉积法制造铱薄膜或铱化合物薄膜，所述化学气相沉积用原料由在铱上配位有环丙烯基或其衍生物以及羰基配体的下式所示的铱配合物构成：[化学式1]式中，环丙烯基配体的取代基R₁～R₃各自独立地为氢、或者碳数1以上4以下的直链状或支链状的烷基。