[发明专利]具有多层p型触点的III-V族氮化物基发光器件有效
申请号: | 201880016305.8 | 申请日: | 2018-03-22 |
公开(公告)号: | CN110447113B | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 马振强;刘冬 | 申请(专利权)人: | 威斯康星州男校友研究基金会 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/04;H01L33/32 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 李跃龙 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供具有多量子阱(MQW)PIN二极管结构的发光器件。该发光器件包含由重度p型掺杂的空穴注入层和薄的p型III族氮化物层组成的多层p型触点。空穴注入层和p型III族氮化物层的材料由材料层隔开,该材料层允许电流隧穿通过在晶格失配材料之间形成的异质结。 | ||
搜索关键词: | 具有 多层 触点 iii 氮化物 发光 器件 | ||
【主权项】:
1.一种发光器件,所述发光器件包含:p型触点,所述p型触点包含:空穴注入层,所述空穴注入层包含单晶或多晶p型掺杂的半导体材料;p型层,所述p型层包含p型掺杂的III族氮化物;和电流隧穿层,所述电流隧穿层设置在空穴注入层与p型III族氮化物层之间,该电流隧穿层包含具有比p型掺杂的半导体材料和p型掺杂的III族氮化物的带隙更宽的带隙的无机材料,其中,电流隧穿层与空穴注入层之间的界面以及电流隧穿层与p型层之间的界面不具有外延结构;n型触点;和有源区,所述有源区包含设置在p型触点与n型触点之间的本征半导体材料,所述有源区包含多量子阱结构,所述多量子阱结构包含交替的III‑V族氮化物势垒层和III‑V族氮化物量子阱层。
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