[发明专利]感放射线性组合物及抗蚀剂图案形成方法有效
| 申请号： | 201880012124.8 | 申请日： | 2018-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN110325916B | 公开（公告）日： | 2023-04-11 |
| 发明（设计）人： | 丸山研 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;C08F220/18;C08L33/10;G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 罗英;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种感度及LWR性能优异的感放射线性组合物。本发明为一种感放射线性组合物，包含：含有具有酸解离性基的第1结构单元的聚合体；通过放射线的照射而产生第1酸的第1化合物；及通过放射线的照射而产生第2酸的第2化合物；并且所述第1酸在110℃、1分钟的条件下实质上不使所述酸解离性基解离，且所述第2酸在110℃、1分钟的条件下使所述酸解离性基解离，并满足下述条件(1)及条件(2)中的至少一者。(1)所述聚合体包含一价的碘原子。(2)进而包含第3化合物，所述第3化合物为所述第1化合物及第2化合物以外的化合物且包含一价的碘原子。 | ||
| 搜索关键词： | 放射 线性 组合 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种感放射线性组合物，包含：含有具有酸解离性基的第1结构单元的聚合体；通过放射线的照射而产生第1酸的第1化合物；以及通过放射线的照射而产生第2酸的第2化合物；并且所述第1酸在110℃、1分钟的条件下实质上不使所述酸解离性基解离，且所述第2酸在110℃、1分钟的条件下使所述酸解离性基解离，并满足下述条件(1)及条件(2)中的至少一者；(1)所述聚合体包含一价的碘原子，(2)进而包含第3化合物，所述第3化合物为所述第1化合物及所述第2化合物以外的化合物且包含一价的碘原子。
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