[发明专利]聚酰亚胺膜及其制备方法有效
申请号: | 201880007053.2 | 申请日: | 2018-02-05 |
公开(公告)号: | CN110177825B | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 金善焕;李辰雨;吴大成;郑多宇;金圭勋 | 申请(专利权)人: | SKC株式会社 |
主分类号: | C08G73/14 | 分类号: | C08G73/14;C08G73/10;C08J5/18 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了一种聚酰亚胺膜的制备方法,其包括:抛光浇铸体的表面;将前驱体浇铸在所述浇铸体的抛光表面上,并干燥,以产生凝胶片;并对所述凝胶片进行热处理以制备聚酰亚胺薄膜,其中,所述浇铸体的抛光表面粗糙度为0.1~160nm;当浇铸前驱体的浇铸体的面积被分割为1cm×1cm时,其落在缺陷减少区域的面积至少为90%;基于20μm至70μm的厚度,所述聚酰亚胺膜的黄色指数至多为3,雾度至多为1%,透光率至少为88%,模量至少为5.0GPa,表面硬度至少为HB,所述黄色指数和所述雾度在550nm处测量。 | ||
搜索关键词: | 聚酰亚胺 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种聚酰亚胺膜的制备方法,其包括:抛光浇铸体的表面;将前驱体浇铸在所述浇铸体的抛光表面上,并将浇铸前驱体干燥,以产生凝胶片;并对所述凝胶片进行热处理以制备聚酰亚胺薄膜,其中,所述浇铸体的抛光表面粗糙度为0.1~160nm;当浇铸前驱体的浇铸体的面积被分割为1cm×1cm时,其落在缺陷减少区域的面积为90%或更多,所述缺陷减少区域是指满足条件的区域,所述条件为在1cm×1cm分割区域中,第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽的数量分别为10或更少,5或更少,3或更少和0,所述第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽的宽度为0.3~3μm,深度为0.5~5μm,长度分别为2μm至小于3μm,3μm至小于5μm,5μm至小于10μm,10μm或更长;所述聚酰亚胺膜的黄色指数为3或更低,雾度为1%或更低,透光率为88%或更高,模量为5.0GPa或更高,表面硬度为HB或更高。
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