[发明专利]聚酰亚胺膜及其制备方法

权利要求书

1.一种聚酰亚胺膜的制备方法，其包括：

用平均孔径大小为10μm至100μm的多孔抛光体抛光浇铸体的表面；

制备前驱体为第二聚合物溶液，通过在有机溶剂中聚合芳香族二胺化合物、芳香族二酐化合物、第一二羰基化合物和第二二羰基化合物以制备第一聚合物溶液，然后进一步向所述第一聚合物溶液中加入所述第二二羰基化合物，得到粘度为100,000～500,000cps的第二聚合物溶液；其中，所述芳香族二胺化合物包含2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基联苯(TFDB)，所述芳香族二酐化合物包括2,2'-双(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐(6-FDA)，所述二羰基化合物包括对苯二甲酰氯(TPC)、1,1'-联苯-4,4'-二羰基二氯化物(BPDC)或其组合；

将所述前驱体浇铸在所述浇铸体的抛光表面上，并将浇铸前驱体干燥，以产生凝胶片；

并对所述凝胶片进行热处理以制备聚酰亚胺薄膜，其中，

所述浇铸体的抛光表面粗糙度为0.1～160nm；其中，所述表面粗糙度是指均方根表面粗糙度；

当浇铸前驱体的浇铸体的面积被分割为1cm×1cm时，其落在缺陷减少区域的面积为90％或更多，所述缺陷减少区域是指满足条件的区域，所述条件为在1cm×1cm分割区域中，第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽的数量分别为10或更少，5或更少，3或更少和0，所述第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽的宽度为0.3～3μm，深度为0.5～5μm，长度分别为2μm至小于3μm，3μm至小于5μm，5μm至小于10μm，10μm或更长；

基于20μm至70μm的厚度，所述聚酰亚胺膜的黄色指数为3或更低，雾度为1％或更低，透光率为88％或更高，模量为5.0GPa或更高，表面硬度为HB或更高；所述透光率、所述黄色指数和所述雾度在550nm处测量。

2.如权利要求1所述的聚酰亚胺膜的制备方法，其特征在于，所述缺陷减少区域满足的条件为在1cm×1cm分割区域中，所述第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽的数量分别为10或更少，5或更少，3或更少和0，所述第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽的宽度为0.2～3μm，深度为0.3～5μm，长度分别为2μm至小于3μm，3μm至小于5μm，5μm至小于10μm，10μm或更长。

3.如权利要求2所述的聚酰亚胺膜的制备方法，其特征在于，所述缺陷减少区域满足的条件为在1cm×1cm分割区域中，所述第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽的数量分别为10或更少，5或更少，3或更少和0，所述第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽的宽度为0.15～3μm，深度为0.2～5μm，长度分别为2μm至小于3μm，3μm至小于5μm，5μm至小于10μm，10μm或更长。

4.如权利要求3所述的聚酰亚胺膜的制备方法，其特征在于，所述缺陷减少区域满足的条件为在1cm×1cm分割区域中，所述第一凹槽的数量为5或更少，所述第二凹槽的数量为3或更少，所述第三凹槽的数量为1或更少。

5.如权利要求4所述的聚酰亚胺膜的制备方法，其特征在于，所述缺陷减少区域满足的条件为所述第三凹槽的数量为0。

6.如权利要求1所述的聚酰亚胺膜的制备方法，其特征在于，所述缺陷减少区域满足的条件为在1cm×1cm的分割区域中所述第一凹槽、所述第二凹槽和所述第三凹槽的数量为0。

7.如权利要求1所述的聚酰亚胺膜的制备方法，其特征在于，在所述抛光步骤中，用包含平均直径为30～100nm的磨粒和抛光液的浆料抛光所述浇铸体的表面。

8.如权利要求7所述的聚酰亚胺膜的制备方法，其特征在于，所述磨粒的多分散指数(PDI)为0.05或更小。

9.权利要求7所述的聚酰亚胺膜的制备方法，其特征在于，所述抛光液包含氧化剂。