[实用新型]一种晶振片的保护装置及真空蒸镀系统有效

专利信息
申请号: 201822203193.7 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN209412309U 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 涂丽娜;李浩永;蔡瑞芝 申请(专利权)人: 合肥欣奕华智能机器有限公司
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/24
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 230013 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开一种晶振片的保护装置及真空蒸镀系统,涉及真空镀膜设备领域,能够保护晶振片,减少其污染,节约真空蒸镀技术的生产成本。一种晶振片的保护装置,所述晶振片设置在真空蒸镀系统的腔室内,所述保护装置包括设置在所述腔室内的保护罩,所述保护罩具有端口,且所述端口敞开,所述晶振片位于所述保护罩内,所述端口处连接有驱动装置,所述驱动装置连接有气体传感器,且所述气体传感器位于所述腔室内,当所述气体传感器检测到所述腔室内有气体存在时,所述驱动装置驱动所述保护罩的端口闭合。本实用新型用于保护真空蒸镀系统内的晶振片。
搜索关键词: 保护装置 真空蒸镀系统 保护罩 晶振片 气体传感器 驱动装置 室内 振片 种晶 本实用新型 真空镀膜设备 真空蒸镀技术 闭合 端口敞开 端口处 生产成本 驱动 检测 节约 污染
【主权项】:
1.一种晶振片的保护装置,所述晶振片设置在真空蒸镀系统的腔室内,其特征在于,所述保护装置包括设置在所述腔室内的保护罩,所述保护罩具有端口,且所述端口敞开,所述晶振片位于所述保护罩内,所述端口处连接有驱动装置,所述驱动装置连接有气体传感器,且所述气体传感器位于所述腔室内,当所述气体传感器检测到所述腔室内有气体存在时,所述驱动装置驱动所述保护罩的端口闭合。
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