[实用新型]一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置有效
申请号: | 201821863344.5 | 申请日: | 2018-11-13 |
公开(公告)号: | CN208995596U | 公开(公告)日: | 2019-06-18 |
发明(设计)人: | 张跃飞;屠金磊 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/54 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 王海燕 |
地址: | 100000 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置,包括沉积真空室,沉积真空室两端连接放卷真空室和收卷真空室,放卷真空室内设置有放卷辊,放卷辊连接有放卷磁流体,放卷磁流体通过放卷磁粉离合器连接有放卷伺服电机;收卷真空室内设置有收卷辊,收卷辊连接有收卷磁流体,收卷磁流体通过收卷磁粉离合器连接有收卷伺服电机;放卷辊和收卷辊上用于缠绕基带;沉积真空室上下两侧分别交错设置有多个热电偶和加热器;沉积真空室上设置有匀气座;沉积真空室、放卷真空室和收卷真空室上分别开设有抽气口。本实用新型提供的原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置,后使原子层沉积简单方便,效率高。 | ||
搜索关键词: | 真空室 收卷 沉积 原子层沉积 磁流体 放卷 卷绕装置 双面镀膜 放卷辊 间歇式 收卷辊 本实用新型 放卷真空室 伺服电机 放卷磁粉离合器 收卷磁粉离合器 加热器 室内 交错设置 上下两侧 抽气口 热电偶 基带 匀气 缠绕 | ||
【主权项】:
1.一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置,其特征在于:包括沉积真空室,所述沉积真空室两端分别连接有放卷真空室和收卷真空室,所述放卷真空室内设置有放卷辊,所述放卷辊连接有放卷磁流体,所述放卷磁流体通过放卷磁粉离合器连接有放卷伺服电机;所述收卷真空室内设置有收卷辊,所述收卷辊连接有收卷磁流体,所述收卷磁流体通过收卷磁粉离合器连接有收卷伺服电机;所述放卷辊和收卷辊上用于缠绕基带;所述沉积真空室上下两侧分别交错设置有多个热电偶和加热器;所述沉积真空室上设置有匀气座;所述沉积真空室、放卷真空室和收卷真空室上分别开设有抽气口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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