[实用新型]脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统

说明书

本实用新型涉及薄膜材料加工技术领域，公开了一种脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统。所述脉冲激光沉积设备的水冷循环装置，包括设置在脉冲激光沉积设备外壳上的第一水冷管以及水冷机，所述第一水冷管的端口与所述水冷机的第一端口密封连接，所述水冷机用于向所述第一水冷管循环输出水冷液。本实用新型的技术方案，使脉冲激光沉积设备的外壳及真空仓可持续降温，避免了薄膜被杂质污染和被氧化，提升了脉冲激光沉积设备薄膜制备的质量、重复性和稳定性。

技术领域

本实用新型涉及薄膜材料加工技术领域，尤其涉及一种脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统。

背景技术

脉冲激光沉积设备(Pulsed Laser Deposition,PLD)可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物、金刚石、立方氮化物等各种材料的薄膜。

脉冲激光沉积设备在制备薄膜时，其内腔和外壳温度过高，密封的橡胶圈容易发生老化变形，其密封性变差导致真空腔体会漏气，薄膜容易被空气中的杂质污染和被氧化。同时，高温也会加快靶材齿轮传动装置的磨损和噪音，影响加工能耗和加工精度。此外，内壁沉积的各种材料会由于高温而挥发沉积到基底上，对薄膜造成污染，影响薄膜制备的质量、重复性和稳定性。

实用新型内容

鉴于此，本实用新型提供一种脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统，解决现有脉冲激光沉积设备制备薄膜时温度过高导致薄膜容易被氧化和被污染而影响薄膜制备的质量、重复性和稳定性的技术问题。

根据本实用新型的实施例，提供一种脉冲激光沉积设备的水冷循环装置，包括设置在脉冲激光沉积设备外壳上的第一水冷管以及水冷机，所述第一水冷管的端口与所述水冷机的第一端口密封连接，所述水冷机用于向所述第一水冷管循环输出水冷液。

优选的，所述脉冲激光沉积设备的水冷循环装置还包括分子泵以及设置在所述分子泵外壳上的第二水冷管，所述第二水冷管的端口与所述水冷机的第二端口密封连接，所述水冷机用于向所述第二水冷管循环输出水冷液。

优选的，所述脉冲激光沉积设备的水冷循环装置还包括设置在所述脉冲激光沉积设备内腔的温度传感器，所述水冷机用于根据所述温度传感器检测到的温度数据自动开机和关机。

优选的，所述脉冲激光沉积设备的水冷循环装置还包括设置在所述脉冲激光沉积设备外壳上的显示模块，用于显示所述温度传感器检测到的温度数据。

优选的，所述显示模块为LCD屏、LED屏或OLED屏。

优选的，所述脉冲激光沉积设备的水冷循环装置还包括设置在所述脉冲激光沉积设备内腔的温度传感器，所述水冷机用于根据所述温度传感器检测到的温度数据自动调整水冷液的流速和温度，以保持所述脉冲激光沉积设备内腔温度在预设范围。

优选的，所述脉冲激光沉积设备的水冷循环装置还包括设置在所述脉冲激光沉积设备外壳上的提示模块，用于当所述温度传感器检测到的实时温度数据超过预设温度值时进行提示。

优选的，所述提示装置为指示灯、显示屏或警报器。

优选的，所述第一水冷管在所述脉冲激光沉积设备外壳侧面呈环形紧密分布、在所述脉冲激光沉积设备外壳顶面呈圆盘形紧密分布。

根据本实用新型的另一个实施例，还提供一种脉冲激光沉积系统，包括脉冲激光沉积设备以及上述的脉冲激光沉积设备的水冷循环装置，所述脉冲激光沉积设备的水冷循环装置用于给所述脉冲激光沉积设备降温。