[实用新型]管式PECVD进气排布结构有效
申请号: | 201820941123.9 | 申请日: | 2018-06-15 |
公开(公告)号: | CN208346253U | 公开(公告)日: | 2019-01-08 |
发明(设计)人: | 蔡新兴;朱露;张凯胜;姚伟忠;孙铁囤 | 申请(专利权)人: | 常州亿晶光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/513 |
代理公司: | 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 | 代理人: | 朱丽莎 |
地址: | 213000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及太阳能电池硅片加工设备技术领域,尤其涉及管式PECVD进气排布结构,将原先的单一炉内底部进气口改变为炉口处上部和两侧等距离排布3个进气口,工艺时同时进气样式,这样的排布方式第一可以保证在炉口端进气的均匀性,在抽气泵不断将气体往炉尾抽时,整体管内气体均匀一致,第二可以避开将进气口安置在炉口底部,不会存在炉管碎片遮挡进气口以及进气口被刮碰的情况。 | ||
搜索关键词: | 进气口 进气 排布结构 管式 太阳能电池硅片 本实用新型 等距离排布 底部进气口 加工设备 均匀一致 排布方式 抽气泵 均匀性 炉口处 炉口端 整体管 刮碰 炉管 炉口 炉内 炉尾 遮挡 避开 样式 安置 保证 | ||
【主权项】:
1.一种管式PECVD进气排布结构,其特征在于:包括PECVD炉管(1)和抽气泵(2),所述PECVD炉管(1)的一端为进气口,PECVD炉管(1)的另一端为出气口,PECVD炉管(1)的出气口和抽气泵(2)相连接,PECVD炉管(1)的进气口内圈安装有三个周向均布的Y字形匀流器(3),三个Y字形匀流器(3)的中间一个Y字形匀流器(3)设置在PECVD炉管(1)的进气口内圈的最高处。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州亿晶光电科技有限公司,未经常州亿晶光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820941123.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的