[实用新型]一种原子层沉积设备

摘要

本申请属于集成电路的薄膜制备领域，具体涉及一种原子层沉积设备，包括反应腔室、进气管、承载台、转速同步调节器以及电机；所述反应腔室一侧的下端设有进气口、另一侧的下端设有出气口；所述进气管竖直布设于所述反应腔室中，并与所述进气口连通，所述进气管上沿竖向方向设有若干气孔；所述承载台设于所述反应腔室的底部，所述电机设于所述反应腔室的下方，所述电机传动连接承载台，并带动所述承载台匀速转动；所述转速同步调节器连接电机，并控制电机的转速。本实用新型提供的原子层沉积设备能调整承载台的转速改善成膜的均匀性。

主权项

1.一种原子层沉积设备，其特征在于，包括反应腔室、进气管、承载台、转速同步调节器以及电机；所述反应腔室一侧的下端设有进气口、另一侧的下端设有出气口；所述进气管竖直布设于所述反应腔室中，并与所述进气口连通，所述进气管上沿竖向方向设有若干气孔；所述承载台设于所述反应腔室的底部，所述电机设于所述反应腔室的下方，所述电机传动连接所述承载台，并带动所述承载台匀速转动；所述转速同步调节器连接所述电机和所述进气口，并用于控制所述电机的转速和所述进气口的进气时间以使通过所述进气口向所述反应腔室通入清洁气体所用时间满足所述承载台旋转一周用时的整数倍关系。