[实用新型]微波等离子体化学气相沉积装置有效
| 申请号： | 201820640317.5 | 申请日： | 2018-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN209522921U | 公开（公告）日： | 2019-10-22 |
| 发明（设计）人： | 马懿;马修·L·斯卡林;朱金华;吴建新;缪勇;卢荻;艾永干;克里斯托弗·E·格里芬 | 申请（专利权）人： | 苏州贝莱克晶钻科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/511 | 分类号： | C23C16/511;C23C16/27;C30B25/00;C30B29/04 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王锋;王茹 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种微波等离子体化学气相沉积装置，包括谐振腔，谐振腔上设置有抽真空接口，该抽真空接口和真空泵之间并联有至少一条第一真空管路和至少一条第二真空管路，其中，每条第一真空管路上分别设置有一阀门；每条第二真空管路上分别设置有一阀门和一比例阀，该比例阀包括密封板、以及开设于密封板上的具有固定口径的通孔，所述第一真空管路的口径大于第二真空管路的口径，还包括微波源，微波源所产生的微波的功率为6～75kW，频率为915MHz～2.45GHz。本实用新型通过设计具有小孔的支路实现在不同压力下的调节，另一方面可以节约大量成本，另一方面控制精度高、压力稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 真空管路 微波等离子体化学气相沉积 真空管 抽真空接口 比例阀 密封板 微波源 谐振腔 阀门 口径 本实用新型 支路 固定口径 压力稳定 真空泵 并联 通孔 小孔 微波 节约 申请 | ||
【主权项】：
1.一种微波等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，包括谐振腔，谐振腔上设置有抽真空接口，该抽真空接口和真空泵之间并联有至少一条第一真空管路和至少一条第二真空管路，其中，每条第一真空管路上分别设置有一阀门；每条第二真空管路上分别设置有一阀门和一比例阀，该比例阀包括密封板、以及开设于密封板上的具有固定口径的通孔，所述第一真空管路的口径大于第二真空管路的口径，还包括微波源，微波源所产生的微波的功率为6~75kW，频率为915MHz~2.45GHz。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
