[实用新型]一种真空蒸发镀膜载体

摘要

目前市面上现有的镀料载体通常都只是为了适应石墨坩埚的形状而定制，所以一般镀料载体的上表面都是平面的，但是将液态的待镀材料转移到镀料载体上时，就需要待镀材料的添加速度非常缓慢，才能保证液态的待镀材料不会从镀料载体上溢出，这样就降低了将待镀材料转移到镀料载体上的效率。有鉴于此，本实用新型提出一种真空蒸发镀膜载体，该载体的两个表面中至少有一个表面含有凹陷结构，这样使得液态的待镀材料能够顺利得添加到真空蒸发镀膜载体中，提高了工作效率，且由于凹陷结构的存在，会使得整个真空蒸发镀膜载体的比表面积增大，会提升液态的待镀材料在真空蒸发镀膜载体上的吸附速度，且也会增加真空蒸发镀膜过程中的待镀材料的挥发速度。

主权项

1.一种真空蒸发镀膜载体，其包括真空蒸发镀膜载体的本体（1），其特征在于：真空蒸发镀膜载体的本体（1）具有上表面（11）和下表面（12）两个表面，上表面（11）上具有凸起边缘（111）、斜坡面（112）、凹陷区（113），其中凹陷区（113）位于最中间，斜坡面（112）位于凹陷区（113）的周围一圈，凸起边缘（111）位于斜坡面（112）的周围一圈。