[发明专利]一种离子中和器装置及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811654080.7 申请日: 2018-12-28
公开(公告)号: CN109904052B 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 孙雷蒙;涂良成;王玉容;宋培义;匡双阳;肖东阳 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01J37/02 分类号: H01J37/02;B81C1/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 曹葆青;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开一种离子中和器装置及其制备方法,包括:阴极衬底、碳纳米管阵列、金属纳米颗粒、绝缘层以及金属栅网电极;所述碳纳米管阵列沉积在阴极衬底,所述金属纳米颗粒分散在碳纳米管阵列上,均匀修饰所述碳纳米管阵列,成为碳纳米管阵列阴极;所述绝缘层位于所述阴极衬底表面,所述绝缘层为中空的,所述碳纳米管阵列阴极位于绝缘层中空部分;所述金属栅网电极为镂空结构,所述碳纳米管的阵列与金属栅网电极的镂空位置对准,形成三明治结构,确保所述碳纳米管的阵列阴极、金属栅网电极以及绝缘层三者互不导通。本发明降低碳纳米管和衬底间的接触电阻,减少器件的热效应和整体功耗改善中和器的工作寿命和可靠性。
搜索关键词: 一种 离子 中和 装置 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种离子中和器装置,其特征在于,包括:阴极衬底(101)、碳纳米管阵列(201)、金属纳米颗粒(203)、绝缘层(301)以及金属栅网电极(401);所述碳纳米管阵列(201)沉积在阴极衬底(101),所述金属纳米颗粒(203)分散在碳纳米管阵列(201)上,均匀修饰所述碳纳米管阵列(201),成为碳纳米管阵列(201)阴极;所述绝缘层(301)位于所述阴极衬底(101)表面,所述绝缘层(301)为中空的,所述碳纳米管阵列(201)阴极位于绝缘层(301)中空部分;所述金属栅网电极(401)为镂空结构,所述碳纳米管的阵列(201)与金属栅网电极(401)的镂空位置对准,形成三明治结构,确保所述碳纳米管的阵列(201)阴极、金属栅网电极(401)以及绝缘层(301)三者互不导通。
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