[发明专利]光学模组母版、光学模组及制备方法有效
| 申请号： | 201811610454.5 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109696779B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 金忠盛 | 申请（专利权）人： | 张家港康得新光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02B30/27 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 215634 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种光学模组母版、光学模组及制备方法。其中光学模组母版的制备方法包括：提供一衬底基板；衬底基板包括多个光学模组区域；在衬底基板一侧形成透明导电层；将每个光学模组区域内的透明导电层进行刻蚀，刻蚀路径为封闭图形，刻蚀路径包围区域为第一区域，每个第一区域以外的区域为第二区域。本发明实施例的技术方案，将母版上每个光学模组区域内的透明导电层用封闭图形刻蚀，形成刻蚀路径包围的第一区域和第一区域之外的第二区域，可以在将母版切割为多个光学模组之前检测第一区域和第二区域的透明导电层之间是否绝缘，防止第一区域和第二区域的透明导电层之间短路的不良产品进入后续流程，提高光学模组的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 模组 母版 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学模组母版的制备方法，其特征在于，包括：提供一衬底基板；所述衬底基板包括多个光学模组区域；在所述衬底基板一侧形成透明导电层；将每个所述光学模组区域内的所述透明导电层进行刻蚀，刻蚀路径为封闭图形，所述刻蚀路径包围区域为第一区域，每个所述光学模组区域中的所述第一区域以外的区域为第二区域。
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