[发明专利]光学模组母版、光学模组及制备方法

权利要求书

1.一种光学模组母版的制备方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板；所述衬底基板包括多个光学模组区域；

在所述衬底基板一侧形成透明导电层；

将每个所述光学模组区域内的所述透明导电层进行刻蚀，刻蚀路径为封闭图形，所述刻蚀路径包围区域为第一区域，每个所述光学模组区域中的所述第一区域以外的区域为第二区域；

还包括：

检测所述第一区域的所述透明导电层和所述第二区域的所述透明导电层之间是否绝缘；

若所述第一区域的所述透明导电层和所述第二区域的所述透明导电层之间非绝缘，继续执行将每个所述光学模组区域内的所述透明导电层进行刻蚀的操作，直至所述第一区域的所述透明导电层和所述第二区域的所述透明导电层之间绝缘；其中，所述刻蚀路径为封闭图形，所述刻蚀路径包围区域为第一区域，每个所述光学模组区域中的所述第一区域以外的区域为第二区域。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括：在所述衬底基板一侧形成柱状透镜阵列和配向层，或者，

在所述衬底基板一侧形成配向层。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，检测所述第一区域的所述透明导电层和所述第二区域的所述透明导电层之间是否绝缘包括：

测量所述第一区域的所述透明导电层和所述第二区域的所述透明导电层之间的电阻；

若所述第一区域的所述透明导电层和所述第二区域的所述透明导电层之间的电阻大于预设阈值，则判定所述第一区域的所述透明导电层和所述第二区域的所述透明导电层之间绝缘。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，检测所述第一区域的所述透明导电层和所述第二区域的所述透明导电层之间是否绝缘包括：

为所述第一区域的所述透明导电层或所述第二区域的所述透明导电层施加预设电压；

若检测到未施加电压区域的所述透明导电层电压为0，则判定所述第一区域的所述透明导电层和所述第二区域的所述透明导电层之间绝缘。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一区域包括一个凸起的端子区。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述刻蚀路径的线宽大于或等于0.1mm。

7.一种光学模组母版，其特征在于，采用权利要求1-6中任一项所述的光学模组母版的制备方法形成。

8.一种光学模组的制备方法，其特征在于，包括：

提供一如权利要求7所述光学模组母版；所述光学模组母版包括多个光学模组区域；

在所述第一区域的所述透明导电层和所述第二区域的所述透明导电层之间绝缘时，将所述光学模组母版切割，以形成多个光学模组。

9.一种光学模组，其特征在于，采用权利要求8所述的光学模组的制备方法形成。

10.根据权利要求9所述的光学模组，其特征在于，所述光学模组为2D/3D可切换光学模组。