[发明专利]显示装置及其阵列基板制作方法和计算机可读存储介质有效
申请号: | 201811598096.0 | 申请日: | 2018-12-25 |
公开(公告)号: | CN109839782B | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 单剑锋 | 申请(专利权)人: | 惠科股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1339;G02F1/1335;G02F1/1343 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种显示装置的阵列基板制作方法,所述显示装置的制作方法包括以下步骤:提供一基板;在所述基板上制作主动开关层;在制作所述主动开关层上制作色阻层;确定间隔物层对应区域的色阻层的数量;根据所述色阻层的数量确定制作遮光层的图案化参数;在所述色阻层上方涂布间隔物色阻层,以所述图案化参数图案化所述间隔物色阻层形成间隔物层,其中,所述间隔物层包括具有高度差的主隔垫区和辅隔垫区,所述主隔垫区间隔物的高度大于所述辅隔垫区间隔物的高度。本发明还公开了一种显示装置和计算机可读存储介质。本发明提高了显示装置的显示均匀性和显示效果。 | ||
搜索关键词: | 显示装置 及其 阵列 制作方法 计算机 可读 存储 介质 | ||
【主权项】:
1.一种显示装置的阵列基板制作方法,其特征在于,所述显示装置的制作方法包括以下步骤:提供一基板;在所述基板上制作主动开关层;在所述主动开关层上制作色阻层;确定间隔物层对应区域的色阻层数量信息;根据所述色阻层数量信息确定制作遮光层的图案化参数;在所述色阻层上涂布间隔物色阻层,以所述图案化参数图案化所述间隔物色阻层形成间隔物层,其中,所述间隔物层包括具有高度差的主隔垫区和辅隔垫区,所述主隔垫区间隔物的高度大于所述辅隔垫区间隔物的高度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠科股份有限公司,未经惠科股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811598096.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。