[发明专利]显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201811534927.8 申请日: 2018-12-14
公开(公告)号: CN109671753B 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 向明 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/00;H01L21/77
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开一种显示装置及其制造方法,所述显示装置包括一第一柔性衬底层、至少一缓冲层及一第二柔性衬底层;其中所述第二柔性衬底层形成在所述缓冲层上,所述缓冲层形成在所述第一柔性衬底层上,所述缓冲层的一弯折区域形成有图案化的一图案,使得所述第一柔性衬底层通过所述图案贴附在所述第二柔性衬底层上。
搜索关键词: 显示装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种显示装置,其特征在于:所述显示装置包括:一第一柔性衬底层、至少一缓冲层及一第二柔性衬底层;其中所述第二柔性衬底层形成在所述缓冲层上,所述缓冲层形成在所述第一柔性衬底层上,所述缓冲层的一弯折区域形成有图案化的一图案,使得所述第一柔性衬底层通过所述图案贴附在所述第二柔性衬底层上。
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