[发明专利]像差校正系统、光刻机及像差校正方法在审
| 申请号： | 201811460127.6 | 申请日： | 2018-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109298605A | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 李铭;童立峰;应广驰;赵彬 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请提供的一种像差校正系统，包括：光源、狭缝、球面准直反射镜、反射光栅以及像差校正模块，所述光源提供的光束经过所述狭缝射入所述球面准直反射镜，所述球面准直反射镜可以保证所述光束的准直性。所述球面准直反射镜将光束垂直射入设置在在所述球面准直反射镜与反射光栅之间的像差校正模块上，所述反射光栅经过所述像差校正模块校正后的光束，以在不同的方向上反射所述光束，并将所述光束反射至一聚焦反射镜上。通过在所述球面准直反射镜与所述反射光栅之间设置像差校正模块，所述像差校正模块与所述反射光栅接收的光束垂直，以校正由所述球面准直反射镜产生的像差，可以在不改变光束原有的光路途径实现减小光束通过掩膜版成像的像差。 | ||
| 搜索关键词： | 球面 准直反射镜 像差校正模块 反射光栅 像差校正 光束垂直 射入 狭缝 像差 校正 聚焦反射镜 光束反射 光束通过 光源提供 光刻机 掩膜版 原有的 准直性 光路 减小 成像 反射 光源 申请 保证 | ||
【主权项】：
1.一种像差校正系统，其特征在于，包括：光源，提供光束；狭缝，用于透过所述光束；球面准直反射镜，接收来自所述狭缝的光束；反射光栅，接收所述光束，并将所述光束反射至一聚焦反射镜上；像差校正模块，设置在所述球面准直反射镜与所述反射光栅之间，所述像差校正模块与所述反射光栅接收的光束垂直，以校正由所述球面准直反射镜产生的像差。
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