[发明专利]像差校正系统、光刻机及像差校正方法在审
| 申请号： | 201811460127.6 | 申请日： | 2018-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109298605A | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 李铭;童立峰;应广驰;赵彬 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 球面 准直反射镜 像差校正模块 反射光栅 像差校正 光束垂直 射入 狭缝 像差 校正 聚焦反射镜 光束反射 光束通过 光源提供 光刻机 掩膜版 原有的 准直性 光路 减小 成像 反射 光源 申请 保证 | ||
1.一种像差校正系统，其特征在于，包括：
光源，提供光束；
狭缝，用于透过所述光束；
球面准直反射镜，接收来自所述狭缝的光束；
反射光栅，接收所述光束，并将所述光束反射至一聚焦反射镜上；
像差校正模块，设置在所述球面准直反射镜与所述反射光栅之间，所述像差校正模块与所述反射光栅接收的光束垂直，以校正由所述球面准直反射镜产生的像差。
2.根据权利要求1所述的像差校正系统，其特征在于，在所述光源和所述球面准直反射镜之间设置了波长选择滤波器。
3.根据权利要求1所述的像差校正系统，其特征在于，所述像差校正模块为施密特校正板。
4.根据权利要求3所述的像差校正系统，其特征在于，所述施密特校正板具有一入射面和一出射面，所述入射面向所述球面准直反射镜设置，以及出射面面向所述反射光栅设置。
5.根据权利要求3所述的像差校正系统，其特征在于，所述施密特校正板的尺寸小于所述反射光栅的尺寸。
6.根据权利要求3-5任一项所述的像差校正系统，其特征在于，所述施密特校正板的材料为光学石英玻璃。
7.一种光刻机，其特征在于，包括如权利要求1至6任一项所述的像差校正系统。
8.根据权利要求7所述的像差校正系统，其特征在于，所述的光刻机还包括探测器，以探测从所述聚焦反射镜出射出的所有光束。
9.一种像差校正方法，其特征在于，包括：
计算光路中的球面准直反射镜所产生的像差作为需要校正的像差；
根据需要校正的像差计算像差校正模块的参数，并根据所述参数选取像差校正模块；
将所述像差校正模块设置在所述光路中；
以利用所述像差校正模块校正所述需要校正的像差。
10.根据权利要求9所述的像差校正方法，其特征在于，所述参数为折射率。
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