[发明专利]一种氮化镓基发光二极管外延片及其制作方法有效
申请号: | 201811419037.2 | 申请日: | 2018-11-26 |
公开(公告)号: | CN109860359B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 葛永晖;郭炳磊;王群;吕蒙普;李鹏 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/02;H01L33/00;H01L23/60 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 322000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种氮化镓基发光二极管外延片及其制作方法,属于半导体技术领域。所述氮化镓基发光二极管外延片包括衬底、N型半导体层、有源层和P型半导体层,所述N型半导体层、所述有源层和所述P型半导体层依次层叠在所述衬底上;所述N型半导体层为掺杂Si的GaN层;所述N型半导体层中插入有至少一个复合层,所述复合层包括依次层叠的第一子层、第二子层和第三子层;所述第一子层为掺杂Mg的GaN层,所述第二子层为未掺杂的AlGaN层,所述第三子层为掺杂Ge的GaN层。本发明可以有效促进电子的横向扩展,使得电子在N型半导体层中均匀分布,提高LED的抗静电能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化 发光二极管 外延 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种氮化镓基发光二极管外延片,所述氮化镓基发光二极管外延片包括衬底、N型半导体层、有源层和P型半导体层,所述N型半导体层、所述有源层和所述P型半导体层依次层叠在所述衬底上;所述N型半导体层为掺杂Si的GaN层;其特征在于,所述N型半导体层中插入有至少一个复合层,所述复合层包括依次层叠的第一子层、第二子层和第三子层;所述第一子层为掺杂Mg的GaN层,所述第二子层为未掺杂的AlGaN层,所述第三子层为掺杂Ge的GaN层。
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