[发明专利]一种应用于离子束刻蚀溅射防护的装置和方法有效
| 申请号： | 201811282216.6 | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN109411321B | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 郑林;石慧;王殿良;崔云涛;吴洪文;王得信 | 申请（专利权）人： | 中国船舶重工集团公司第七0七研究所 |
| 主分类号： | H01J37/30 | 分类号： | H01J37/30;H01J37/305 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 王倩 |
| 地址： | 300131 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种应用于离子束刻蚀溅射防护的装置和方法，该装置主要包括正面支架上的圆柱形屏蔽筒和底座支架。该装置整体置于真空室舱门内，工件台的正前方，通过底座支架和正面支架可以调节圆柱形屏蔽筒的位置，使之与工件台止推板处于同一水平面。在止推板安装到工件台靶位之后，对止推板进行溅射防护，从而减小了离子束刻蚀过程中由离子溅射引起的刻蚀止推板槽深超差，满足了陀螺仪精度的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 离子束 刻蚀 溅射 防护 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种应用于离子束刻蚀溅射防护的装置，其特征在于：包括正面支架、底座支架和圆柱形屏蔽筒，正面支架竖直设置，正面支架的下部安装在底座支架上，正面支架的上部制出一个通孔，正面支架的背面安装一个圆柱形屏蔽筒，该圆柱形屏蔽筒与正面支架上部所制通孔同轴设置，且圆柱形屏蔽筒的轴孔与通孔相连通。
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