[发明专利]一种基于电荷分部调制的高线性毫米波器件在审

专利信息
申请号: 201811052290.9 申请日: 2018-09-10
公开(公告)号: CN109411349A 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 马晓华;郝跃;武盛;宓珉瀚 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L21/335 分类号: H01L21/335;H01L29/06;H01L29/423;H01L29/778
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 张捷
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种基于电荷分布调控的高线性毫米波器件及其制作方法,该制作方法包括:在外延基片上两侧制作源电极和漏电极,外延基片包括依次生长形成的衬底层、AIN成核层、GaN缓冲层、AlN插入层和AlGaN势垒层;在AlGaN势垒层上生长钝化层;在钝化层上的栅极区光刻形成渐变凹槽结构,栅极区包括渐变凹槽区域、栅脚区域和栅帽区域;在栅帽区域上光刻形成栅电极图形;对栅电极图形蒸发栅金属制作栅电极;在源电极和所述漏电极上制作金属互联层,制作得到基于电荷分布调控的高线性毫米波器。本发明有效地解决了器件在连续波工作时中心难散热的问题。
搜索关键词: 高线性 制作 毫米波器件 电荷分布 外延基片 钝化层 漏电极 栅极区 渐变 栅帽 金属互联层 栅电极图形 蒸发栅金属 毫米波 凹槽结构 凹槽区域 电极图形 电荷 电极 生长 衬底层 成核层 连续波 有效地 源电极 栅电极 制作源 散热 调控 上光 对栅 光刻 栅脚 调制 分部
【主权项】:
1.一种基于电荷分布调控的高线性毫米波器件的制作方法,其特征在于,包括步骤:S1、在外延基片上的两侧制作源电极(7)和漏电极(8),其中,所述外延基片包括依次生长形成的衬底层(1)、AIN成核层(2)、GaN缓冲层(3)、AlN插入层(4)和AlGaN势垒层(5);S2、在所述AlGaN势垒层(5)上生长钝化层(6);S3、在所述钝化层(6)上的栅极区光刻形成渐变凹槽结构,其中,所述栅极区包括渐变凹槽区域(901)、栅脚区域(902)和栅帽区域(903);S4、在所述栅帽区域(903)上光刻形成栅电极图形;S5、对所述栅电极图形蒸发栅金属制作栅电极(9);S6、在所述源电极(7)和所述漏电极(8)上制作金属互联层(10),制作得到基于电荷分布调控的高线性毫米波器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811052290.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top