[发明专利]一种基于电荷分部调制的高线性毫米波器件在审
申请号: | 201811052290.9 | 申请日: | 2018-09-10 |
公开(公告)号: | CN109411349A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 马晓华;郝跃;武盛;宓珉瀚 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L21/335 | 分类号: | H01L21/335;H01L29/06;H01L29/423;H01L29/778 |
代理公司: | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 张捷 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于电荷分布调控的高线性毫米波器件及其制作方法,该制作方法包括:在外延基片上两侧制作源电极和漏电极,外延基片包括依次生长形成的衬底层、AIN成核层、GaN缓冲层、AlN插入层和AlGaN势垒层;在AlGaN势垒层上生长钝化层;在钝化层上的栅极区光刻形成渐变凹槽结构,栅极区包括渐变凹槽区域、栅脚区域和栅帽区域;在栅帽区域上光刻形成栅电极图形;对栅电极图形蒸发栅金属制作栅电极;在源电极和所述漏电极上制作金属互联层,制作得到基于电荷分布调控的高线性毫米波器。本发明有效地解决了器件在连续波工作时中心难散热的问题。 | ||
搜索关键词: | 高线性 制作 毫米波器件 电荷分布 外延基片 钝化层 漏电极 栅极区 渐变 栅帽 金属互联层 栅电极图形 蒸发栅金属 毫米波 凹槽结构 凹槽区域 电极图形 电荷 电极 生长 衬底层 成核层 连续波 有效地 源电极 栅电极 制作源 散热 调控 上光 对栅 光刻 栅脚 调制 分部 | ||
【主权项】:
1.一种基于电荷分布调控的高线性毫米波器件的制作方法,其特征在于,包括步骤:S1、在外延基片上的两侧制作源电极(7)和漏电极(8),其中,所述外延基片包括依次生长形成的衬底层(1)、AIN成核层(2)、GaN缓冲层(3)、AlN插入层(4)和AlGaN势垒层(5);S2、在所述AlGaN势垒层(5)上生长钝化层(6);S3、在所述钝化层(6)上的栅极区光刻形成渐变凹槽结构,其中,所述栅极区包括渐变凹槽区域(901)、栅脚区域(902)和栅帽区域(903);S4、在所述栅帽区域(903)上光刻形成栅电极图形;S5、对所述栅电极图形蒸发栅金属制作栅电极(9);S6、在所述源电极(7)和所述漏电极(8)上制作金属互联层(10),制作得到基于电荷分布调控的高线性毫米波器。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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