[发明专利]一种膜质检测装置及其制作方法和检测方法在审
| 申请号： | 201811024439.2 | 申请日： | 2018-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN109188231A | 公开（公告）日： | 2019-01-11 |
| 发明（设计）人： | 方金钢;成军;丁录科;周斌;闫梁臣 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01R31/26 | 分类号： | G01R31/26;H01L27/32;H01L51/52 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 周娟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种膜质检测装置及其制作方法和检测方法，涉及显示技术领域，以保证绝缘层的膜质性能较好的情况下，减少形成绝缘层时金属层的氧化强度。该膜质检测装置包括衬底基板和设在衬底基板上的至少一个电容，每个电容包括依次层叠设置的第一金属层、中间绝缘层和第二金属层；第一金属层在衬底基板所在板面的正投影位于第二金属层在衬底基板所在板面的正投影内且具有交叠区域，中间绝缘层至少具有爬坡部，爬坡部在衬底基板所在板面的正投影位于交叠区域。所述膜质检测装置的制作方法用于制作上述膜质检测装置。本发明提供的膜质检测装置及其制作方法和检测方法用于检测膜质均匀性中。 | ||
| 搜索关键词： | 检测装置 膜质 衬底基板 正投影 制作 绝缘层 第二金属层 第一金属层 中间绝缘层 交叠区域 电容 爬坡 检测 依次层叠 检测膜 金属层 均匀性 保证 | ||
【主权项】：
1.一种膜质检测装置，其特征在于，包括衬底基板和设在所述衬底基板上的至少一个电容，每个所述电容包括远离所述衬底基板的方向层叠设置的第一金属层、中间绝缘层和第二金属层；所述第一金属层在衬底基板所在板面的正投影位于所述第二金属层在衬底基板所在板面的正投影内，所述第一金属层在衬底基板所在板面的正投影与所述第二金属层在衬底基板所在板面的正投影具有交叠区域，所述中间绝缘层至少具有爬坡部，所述爬坡部在衬底基板所在板面的正投影位于所述交叠区域。
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