[发明专利]一种膜质检测装置及其制作方法和检测方法

权利要求书

1.一种膜质检测装置，其特征在于，包括衬底基板和设在所述衬底基板上的至少一个电容，每个所述电容包括远离所述衬底基板的方向层叠设置的第一金属层、中间绝缘层和第二金属层；所述第一金属层在衬底基板所在板面的正投影位于所述第二金属层在衬底基板所在板面的正投影内，所述第一金属层在衬底基板所在板面的正投影与所述第二金属层在衬底基板所在板面的正投影具有交叠区域，所述中间绝缘层至少具有爬坡部，所述爬坡部在衬底基板所在板面的正投影位于所述交叠区域。

2.根据权利要求1所述的膜质检测装置，其特征在于，所述电容的数量为多个时，多个所述电容并联在一起。

3.根据权利要求2所述的膜质检测装置，其特征在于，

各个所述电容所包括的第一金属层通过第一导电层连接在一起；和/或，

各个所述电容所包括的第二金属层通过第二导电层连接在一起。

4.根据权利要求3所述的膜质检测装置，其特征在于，当各个所述电容所包括的第一金属层通过第一导电层连接在一起，各个所述电容所包括的第二金属层通过第二导电层连接在一起时，所述第一导电层在衬底基板所在板面的正投影与所述第二导电层在衬底基板所在板面的正投影相互独立。

5.根据权利要求2所述的膜质检测装置，其特征在于，各个所述电容所包括的中间绝缘层连接在一起。

6.根据权利要求1～5任一项所述的膜质检测装置，其特征在于，所述膜质检测装置还包括电学性能测试单元，所述电学性能测试单元用于测量至少一个电容的电学参数。

7.一种膜质检测装置的制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板的表面形成至少一个电容，每个所述电容包括远离所述衬底基板的方向层叠设置的第一金属层、中间绝缘层和第二金属层，所述第一金属层在衬底基板所在板面的正投影位于所述第二金属层在衬底基板所在板面的正投影内，所述第一金属层在衬底基板所在板面的正投影与所述第二金属层在衬底基板所在板面的正投影具有交叠区域，所述中间绝缘层至少具有爬坡部，所述爬坡部在衬底基板所在板面的正投影位于所述交叠区域。

8.根据权利要求7所述的膜质检测装置的制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的表面形成至少一个电容包括：

在所述衬底基板的表面形成至少一个第一金属层；

在至少一个所述第一金属层远离衬底基板的表面一一对应的形成至少一个中间绝缘层；

在至少一个中间绝缘层远离衬底基板的表面一一对应的形成至少一个第二金属层。

9.一种膜质检测方法，其特征在于，应用权利要求1～6任一项所述膜质检测装置，所述膜质检测方法包括：

测试至少一个电容的电学性能曲线；

根据至少一个电容的电学性能曲线，获取至少一个电容的电学突变参数；

根据至少一个电容的电学突变参数，判断至少一个电容所包括的中间绝缘层的膜质性能。

10.根据权利要求9所述的膜质检测方法，其特征在于，所述电学性能曲线为电容量-电压曲线或电流-电压曲线。