[发明专利]一种氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811022425.7 申请日: 2018-09-03
公开(公告)号: CN109326692B 公开(公告)日: 2020-03-27
发明(设计)人: 吕腾飞;芦玲;祝光辉;刘坚 申请(专利权)人: 淮安澳洋顺昌光电技术有限公司
主分类号: H01L33/04 分类号: H01L33/04;H01L33/12;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 温福雪
地址: 223001*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于半导体器件制备技术领域,一种氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法,氮化镓基发光二极管外延片从下到上依次为蓝宝石衬底、AlN缓冲层、3D生长过程中插入5~20个周期AlxGa(1‑x)N/AlN/GaN超晶格层应力释放层、2D GaN层、n型GaN层、nsls应力释放层、MQW发光层和P型GaN层。超晶格的生长方式能有效调控外延层中的应力,有效避免外延层生长后薄膜龟裂的出现,同时也提高了GaN薄膜的生长质量。由于超晶格层能有效释放应力,MQW发光层中由于应力产生的内建电场在较大程度上得以减弱,量子阱能带倾斜减小,电子和空穴波函数重叠增加,MQW发光层亮度得到有效提升。
搜索关键词: 一种 氮化 发光二极管 外延 及其 制备 方法
【主权项】:
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