[发明专利]掩膜版、显示基板及其制作方法

摘要

本发明提供一种掩膜版、显示基板及其制作方法，该掩膜版包括：透明衬底以及设置于所述透明衬底上的遮光层，所述遮光层上具有第一开口图形；所述透明衬底包括：第一区域，所述第一区域在所述遮光层上的正投影与所述第一开口图形重叠，所述第一区域的至少部分边缘区域具有光线汇聚结构，所述光线汇聚结构用于将入射至所述至少部分边缘区域的光线向所述第一开口图形的中心区域汇聚。本发明中，通过在掩膜版的开口的边缘区域设置光线汇聚结构，可以将入射至开口的边缘区域的光线向开口的中心区域汇聚，补偿中心区域欠缺的光强度，避免形成火山口形貌的膜层图形。

主权项

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：透明衬底，以及，设置于所述透明衬底上的遮光层，所述遮光层上具有第一开口图形；所述透明衬底包括：第一区域，所述第一区域在所述遮光层上的正投影与所述第一开口图形重叠，所述第一区域的至少部分边缘区域具有光线汇聚结构，所述光线汇聚结构用于将入射至所述至少部分边缘区域的光线向所述第一开口图形的中心区域汇聚。