[发明专利]图像传感器及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201810996626.0 申请日: 2018-08-29
公开(公告)号: CN109427835B 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 郑允玮;周俊豪;李国政 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的一些方面涉及一种图像传感器,包括具有前侧和背侧的半导体衬底。在位于前侧和后侧之间的半导体衬底中布置光电检测器。在半导体衬底的前侧下方布置互连结构,使得在互连结构和半导体衬底的背侧之间布置半导体衬底的前侧。下部环状结构延伸到半导体衬底的背侧中并横向地围绕光电检测器。通过下部环状结构围绕的光栅结构从衬底的背侧延伸至光电检测器内的位置。本发明的实施例还提供了一种图像传感器的形成方法。
搜索关键词: 图像传感器 及其 形成 方法
【主权项】:
1.一种图像传感器,包括:半导体衬底,具有前侧和背侧,其中,在位于所述前侧和所述背侧之间的所述半导体衬底中布置光电检测器;互连结构,布置在所述半导体衬底的前侧下方,使得在所述互连结构和所述半导体衬底的背侧之间布置所述半导体衬底的前侧;下部环状结构,延伸到所述半导体衬底的背侧中并横向围绕所述光电检测器;以及光栅结构,被所述下部环状结构围绕,并从所述衬底的背侧延伸至所述光电检测器内的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810996626.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top