[发明专利]一种降低ESD保护器件触发电压的方法在审

专利信息
申请号: 201810989048.8 申请日: 2018-08-28
公开(公告)号: CN109411467A 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 孙磊;余天宇 申请(专利权)人: 北京中电华大电子设计有限责任公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102209 北京市昌平区北七家镇未*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种降低ESD保护器件触发电压的方法,适用于集成电路中ESD防护器件的特性改进,其中所述ESD保护器件包括并联排列的多个NMOS管,所述多个NMOS管的漏极通过金属连线接到I/O端口或电源端口,多个NMOS管的栅极、源极和衬底共同接到地电位。其特征为:在所述的ESD保护器件中,NMOS管的漏极去掉了LDD注入(Light Dope Drain,低掺杂漏区)。在I/O端口或电源端口出现正ESD脉冲时,因为漏区去掉了LDD注入,漏区寄生二极管的击穿电压降低,降低了ESD保护器件的触发电压,使得并联排列的多个MOS管同时导通放电,并且低于被保护器件的失效电压,能够更好的保护内部电路,集成电路的ESD保护能力得到提高。
搜索关键词: 触发电压 漏区 并联排列 电源端口 漏极 集成电路 被保护器件 寄生二极管 击穿电压 金属连线 内部电路 特性改进 低掺杂 地电位 衬底 导通 放电 源极
【主权项】:
1.一种降低ESD保护器件触发电压的方法,适用于集成电路中静电放电(ESD)防护器件的设计,其特征在于:该ESD保护器件为位于P阱中的并联排列的多个NMOS管,所述多个NMOS的漏极接到I/O端口或电源端口,栅极、源极和衬底共同接到地电位,在所述的ESD保护器件中,NMOS管的漏极被LDD阻挡层盖住,没有LDD注入;在I/O端口或电源端口出现正ESD脉冲时,漏极寄生二极管被击穿,因为没有LDD注入,击穿电压降低,降低了寄生NPN的触发电压,使得并联排列的多个NMOS管可以同时导通放电,提高了ESD保护电路的性能;在I/O端口或电源端口出现负ESD脉冲时,NMOS漏极和P阱寄生二极管开启,起到保护作用。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中电华大电子设计有限责任公司,未经北京中电华大电子设计有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810989048.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top